與傳統(tǒng)的方法相比，等離子體表面處理具有成本低、無廢棄物、無污染等顯著的優(yōu)點，同時可以得到傳統(tǒng)的化學方法難以達到的處理效果。現(xiàn)在低溫等離子設(shè)備廣泛運用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領(lǐng)域。

       等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；

       等離子處理機具有高穩(wěn)定性、高性價比、高均勻性等諸多優(yōu)點。

       特色鮮明的處理腔體形狀和電 結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。