UV光解廢氣凈化設備原理：
UV光解廢氣凈化設備采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數十倍強度）在設備內，高強分解惡臭物質分子鏈，改變物質結構，將高分子污染物質，裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。
催化原理：
1、UV光解廢氣凈化設備O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質。
2、UV光解廢氣凈化設備催化劑涂層，在C波段激光刺激它產生活性，強化催化氧化作用。
3、UV光解廢氣凈化設備在分解過程中產生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*（活性氧）O+O2-O3（臭氧），眾所周知臭氧對有機物具有 強的氧化作用，對惡臭氣體及其它剌激性異味有 強的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅菌的目的。
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